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CNC Comsetic

CNC ANTI POLLUTION, Einzelampulle

Regulärer Preis
€3,10
Regulärer Preis
Verkaufspreis
€3,10
inkl. MwSt.

Inhalt 2 ml20 g

Geeignet für Alle Hauttypen

Beschreibung
Die Wirkstoffampulle ANTI POLLUTION von CNC nutzt eine innovative Mischung aus pflanzlichen Peptiden, Moringaextrakt und natürlichen Enzymen, um schädliche Umwelteinflüsse und freie Radikale zu bekämpfen. Sie bietet einen zuverlässigen Schutz vor den negativen Auswirkungen übermäßiger Ozonstrahlung. Diese einzigartige Formel bewahrt die Haut effektiv vor den Schäden, die durch Umweltverschmutzung wie Abgase, Schwermetalle und Tabakrauch verursacht werden können.


Anwendung

Das Anti-Pollution Serum erst kurz vor der Anwendung öffnen und auf der gereinigten, trockenen Haut verteilen. Sanft einklopfen. Das Serum eignet sich für die tägliche Anwendung. Wir empfehlen es morgens unter dem Make-Up bzw. der Tagespflege aufzutragen, so dass Deine Haut den ganzen Tag über optimal geschützt ist. Bitte lasse eventuelles Restfluid nach dem Öffnen nicht länger als 12 Stunden stehen, da die Inhaltsstoffe durch Oxidation ihre Wirkung verlieren.

Hauptwirkstoff

Moringaextrakt, Hyaluronsäure, Sojaprotein, Efeuextrakt, Panthenol

Inhaltsstoffe

AQUA, PROPANEDIOL, BUTYLENE GLYCOL, GLYCERIN, PENTYLENE GLYCOL, PANTHENOL, PHENOXYETHANOL, TRIDECETH-9, PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL, MORINGA PTERYGOSPERMA SEED EXTRACT, SODIUM LACTATE, XANTHAN GUM, ETHYLHEXYLGLYCERIN, TETRASODIUM GLUTAMATE DIACETATE, PEG-8, SODIUM HYALURONATE, PARFUM, CAPRYLYL GLYCOL, HELIANTHUS ANNUUS SEED EXTRACT, PROPYLENE GLYCOL, GLYCINE SOJA, SUPEROXIDE DISMUTASE, CITRIC ACID, LEUCONOSTOC/RADISH ROOT FERMENT FILTRATE, LACTIC ACID, PPG-1-PEG-9 LAURYL GLYCOL ETHER, HEDERA HELIX LEAF/STEM EXTRACT, SODIUM DEXTRAN SULFATE, PHYTIC ACID, SODIUM POLYACRYLATE, SODIUM BENZOATE, SODIUM HYDROXIDE, SODIUM SULFATE, CI 16185, POTASSIUM SORBATE, CI 42090, SODIUM CHLORIDE

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CNC ANTI POLLUTION, Einzelampulle